冲电气（OKI）向安森美半导体欧洲工厂提供排气处理设备

既能完成常压CVD制膜过程的排气处理又同时确保制膜稳定性，支持客户生产过程的环保

冲电气（OKI）报道，冲电气集团（OKI）旗下的提供可靠性评估和环保技术服务的冲工程技术株式会社（社长：浅井裕，总公司：日本东京都练马区，以下简称“OEG”）向半导体生产厂商安森美半导体（ON Semiconductor）公司（社长：Keith Jackson，总公司：美国亚利桑那州凤凰城）欧洲工厂提供常压CVD※1生产设备用排气处理设备“KGT-3MM-AP”。该设备不仅能够处理常压CVD生产设备所使用的特殊气体的危害，还可以控制排放气体保持一定的压力，保证CVD膜生产线的稳定生产，为客户生产过程中的环保作贡献。

Power FET※2和IGBT※3等半导体绝缘膜的生产，常压CVD生产设备不可或缺。但该生产设备使用SiH4※5、PH3※6、B2H6※7等对人体有害的气体，所以必须进行排气处理。OEG的排气处理设备“KGT-3MM-AP”采用的是湿式处理方式，可以高效处理CVD制膜过程中使用的特殊气体和粉末。设备内部采用特种不锈钢过滤器，不但提高了有害气体处理能力，而且结构上不容易发生堵塞，因此不维修也可以长时间运营。另外，内部过滤器采用特殊构造，易于清洁，降低设备维修管理负担而得到好评。并且，压力控制微压计也是为CVD制膜所使用气体而开发的，排气扇变频控制实现了常压CVD制膜过程中不可或缺的排气压力控制，保证长时间稳定运行。

三年前，作为天谷制作所（社长：吉冈献太郎，总公司：日本埼玉县越谷市）生产的连续常压CVD生产设备所配备的排气处理设备，OEG向安森美半导体提供了“KGT-3MM-AP”。该设备连续作业无故障保证了CVD膜的稳定生产，其压力控制方式和排放有害气体的处理性能等得到安森美半导体的好评，再次被该公司欧洲工厂采用。采用该设备不仅可以确保其欧洲工厂NSG※8、PSG※9、BPSG※10等CVD膜的膜层厚度的稳定，还促进工厂提高产量，削减排气处理费用。

OEG排气处理设备的生产制造已有近30年的历史，有为日本和台湾的半导体和太阳能电池生产厂家提供设备的丰富业绩。此次是为欧洲客户提供设备，还计划将来开拓东南亚市场。

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