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电火花线切割制作低成本高品质衬底

2011年07月20日09:53:20 本网站 我要评论(2)字号:T | T | T
关键字:半导体 

电火花线锯切割(WEDM)是一种多用途、低成本的晶棒处理工艺。它的锯痕宽较小,这意味着它比现有线锯工艺浪费的材料要少得多,并且在加工过程中没有微裂痕产生。在此由来自犹他大学的Dinesh RakwalEberhard Bamberg如是说。

我们研究小组对这项先进的技术引以为豪,当然我们的工作也离不开传统的线锯工艺,它是一种沿用了几百年且得到持续升级的技术。

衬底制造商用线锯技术加工GaAs、InP与SiC晶棒来获得衬底基板,此法工艺简单,生产效率高;然而它也有一些缺陷:材料浪费严重,并且在这些易脆的半导体材料中容易产生微裂痕。而这些微裂痕需要附加工序才能去除掉。

幸运的是,上述状况可在放电线切割工艺(WEDM)技术中得以避免。该工艺由来已久,通过我们犹他大学研究小组的努力,直到较近才被运用到半导体领域。

该非接触工艺首先使用带有数百伏电压的金属线靠近晶棒,当间距调至若干微米时,会产生电弧放电;能量将由金属线传导至晶棒的对应区域,通过局部加热效应使其蒸发气化,从而在晶棒上产生了细微的切割,可以通过不断重复电弧放电过程以加深划痕,较终可切割出一个圆形的薄片。

金属线和晶棒之间的距离需要精确控制,如果二者太近就会发生短路,如果太远切割速度就会下降。还好,该间距可以通过WEDM的操作电压来监控;电压降低意味着金属线与晶棒靠得太近,这时必须降低切割速度以增大线棒间距;同样地,电压升高表示线距离晶棒太远,则需要更高的切割速度。

在金属线和晶棒之间的间隙需要导入电解质,例如去离子水或者油,这可以增大由金属线产生的电场强度,以强化放电的集中度。而且,液体介质也有助于带走切割过程中产生的被熔化的材料。

对于考虑从传统线切割转向WEDM工艺的任一家衬底供应商来说,他们都希望在不降低产品质量的情况下提高加工效率。较大切割速度取决于被切割的材料,同时也可以通过增加放电能量来提高速度,而放电能量的决定因素又包括线棒之电压、放电电流以及放电脉冲时间。能量太高时是通过热冲击而不是非熔融去除材料,所以会产生微裂痕。对锗而言,我们的结论是:为避免微裂纹的产生,放电能量要小于0.111mJ。

晶棒的电导率也极大地影响了WEDM的切割速度。高电阻降低了金属线和晶棒之间的电流,从而减小了融化半导体材料的脉冲能量并较终降低了切割效率。电阻率为0.01Ω cm的材料(例如锗掺杂浓度1×1018cm–3)相对容易,然而当电阻率提高到1Ωcm时切割速度难免会降低。电阻率是20Ωcm时(出现在光学级的非掺杂锗中,用于红外衍射光栅)切割速度很低,但是我们正致力于采用高电压脉冲发生器来应对这一问题。

全文请参看《半导体科技》之“化合物半导体”专栏:“电火花线切割制作低成本高品质衬底

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